Globalfoundries pensa alla litografia Extreme Ultraviolet
Globalfoundries installerà un macchinario per la produzione EUV nel corso del 2012, che verrà impiegato per la produzione in volumi a partire dal 2014 o 2015
di Andrea Bai pubblicata il 15 Luglio 2010, alle 11:54 nel canale Mercato
14 Commenti
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Complimenti per l'itaGliano...
la luce ultravioleta serve per cabiare le proprieta del photoresist creando la maschera dal negativo proiettato.
il silicio lo drogherai/ossiderai successivamente utilizzando la maschera creata con il photoresist
vabbè insomma quello che è... come dice ciccio non vorrei che quella frequenza non sia efficace
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