Litografia EUV sempre più vicina alla realtà, la produzione in volumi nel corso del 2019

La produzione di semiconduttori basata su litografia all'ultravioletto estremo (EUV - Extreme Ultraviolet Litography) sta finalmente diventando reale, con ASML, il produttore olandese che realizza i macchinari per la produzione di semiconduttori, che ha dichiarato la scorsa settimana di essere nel pieno rispetto della tabella di marcia per la consegna di 20 sistemi Extreme Ultraviolet entro il 2018, con aspettative di consegne di ulteriori 30 sistemi durante il prossimo anno.

Le stime della società sono state divulgate nel contesto della relazione del secondo trimestre fiscale, dove ASML ha registrato vendite migliori del previsto per gli strumenti EUV con un fatturato complessivo di 3,2 miliardi di dollari. Il CEO della società, Peter Wennink, ha inoltre riscontrato margini lordi leggermente superiori alle aspettative, che confermano non solo la forza del giro d'affari legato ai tradizionali macchinari Deep Ultraviolet, ma anche il miglioramento nella redditività dei macchinari Extreme Ultraviolet.

La tecnologia Extreme Ultraviolet è stata posticipata numerose volte negli ultimi anni, ma i produttori di primo piano (Intel, Samsung, TSMC) hanno pianificato l'uso di EUV nella produzione in volumi a partire dal prossimo anno, nonostante permangano ancora alcuni dubbi sulla disponibilità delle fonti di alimentazione e di altri elementi nella catena di fornitura, incluse alcune particolari pellicole per la produzione dei semiconduttori.

Wennink ha inoltre sottolineato come il giro di affari legato alla litografia DUV continui ad essere florido, grazie in modo particolare al mercato delle memorie che continuerà a richiedere un numero significativo di sistemi di litografia per tutto l'anno in corso e per buona parte del 2019.